真空鍍膜技術由于基本都是處于真空環(huán)境下進行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g。產品鍍膜過程為真空環(huán)境，真空度極高。鍍膜機內氣壓極低，產品中的添加劑、油脂、水分均會溢出，所以產品注塑時不可打脫模劑，不可添加增塑劑，不可直接加色粉成型。

　　1、納米級厚度、膜厚均勻。真空鍍膜膜層厚度僅數十至數百納米(一般≤0.2um)，膜層各部位厚度極為均勻。例：鍍鋁層厚度達0.9nm時就可導電，達到30nm時性能就和固態(tài)鋁材相同，銀鍍層小于5nm時不能導電。各塑膠產品本身具有約0.5um的粗糙度，結合第1條因素故塑膠表面均在鍍膜前噴涂UV進行封閉流平，以達到理想的鏡面效果。因鍍膜層太薄，故對底涂UV材料外觀要求近乎苛刻，這就要求涂裝室潔凈度極高。同時產品外觀面積越大，不良率就可能就越高(目前奧科生產車間潔凈度為10000級，噴涂室、烤箱、鍍膜車間潔凈度3000級)。

　　鍍膜厚度目前主要通過光透過率及反射率來控制，鍍層越厚，透光率越差，反射率越高。

　　2、鍍膜產品放置具有方向性：在立式、臥式鍍爐中，產品均須于鍍爐工裝平行平面放置。因為金屬材料隨蒸氣流作直線或弧線運動，而鍍膜材料一般均與工裝平行放置。

　　鍍膜室空間一定,產品平面面積越大,曲面越深,產能就越低,相應生產成本就越高。

　　3、底涂UV后及鍍膜后產品表面極其脆弱敏感,需特殊保護。因鍍膜層僅幾十納米,對底涂UV層表面不良不具備遮蔽能力,另鍍層因太薄，鍍膜層金屬極其柔弱，極易刮傷、碰傷。產品底涂UV后,鍍膜后不能進行人工全檢,(用小批量試產的辦法確定良品率)作業(yè)過程中,通過治具專用手柄、戴指套、口罩及車用無塵罩等辦法預防產品表面被污染、破壞。

　　4、鍍膜材料或蒸氣流入射速度極高，一般磁控濺射及蒸發(fā)鍍金屬原子入射速度均在2000米/秒左右。每爐鍍膜時間(金屬原子累積入射沉淀時間)一般在15-20分鐘左右，磁控濺射視工藝不同有所區(qū)別。每爐產能以普通翻蓋手機外殼為例約450-800PCS/爐不等，產品大小不同，每爐產能不同。

　　5、顏色制作途徑多樣化，目前有三種顏色制作途徑：一、是在中涂UV或面涂UV中添加色精。因色精會與UV紫外光起作用，故添加量一般5%左右;二、是在鍍膜過程中充入氣體，使氣體與金屬材料反應獲得顏色(如Ar2 O2 鋁金屬可獲得黑色,O2 Al獲得黃色);三、是前述兩者相結合進行生產。一般來說顏色越深、越濃、越艷;附著力會越差(加色精工藝)。

　　6、鍍膜用金屬材料范圍極廣，除鐵金屬外，各種金屬及金屬合金，理論上都可用作鍍材。常用的有鋁、銅、錫、鎳、鉻等。另因鍍膜是物理過程，對產品材料本身性能幾乎沒有影響。

　　7、鍍膜產品能達到的品質水準:

　　附著力：無脫落-。RCA耐磨：200-300次。

　　硬度：1H-3HABS PC素材一般在500g擦1H；PMMA素材則可達3H，甚至4H。

　　其它諸如高低溫、冷熱沖擊、鹽霧測試、紫外線測試、化妝品測試、抗人造汗測試等均可達到常規(guī)要求。

　　8、生產過程時間局限性：因金屬鍍層長時間露置在空氣中會氧化發(fā)黑，不同材料氧化速度不同，其中錫鍍層氧化速度最快，8H就會明顯發(fā)黑，另底漆UV靜置時間如過長，漆膜太厚也會影響鍍膜層附著力。故底漆UV、鍍膜及面涂UV幾個工序之間作業(yè)時間間隔依據實際作業(yè)經驗一般限定在8-12H范圍內。

　　9、UV涂料及涂料施工特性：鍍膜用的底涂UV及面涂UV涂料相比普通塑膠噴涂UV涂料有兩個明顯不同之特性：1)涂料材料組成之固含量高，底漆UV最高;2)不含且不能添加普通噴涂用的惰性溶劑，須特殊調配專用溶劑。故產品單位涂料用量及成本明顯比普通塑膠噴涂高出很多，另底漆UV、面涂UV及色精對UV能量范圍的要求也較普通UV苛刻，一般底漆UV要求800-1000mj/cm2面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同顏色之色精根據實際情況調整UV燈能量。UV生產時過濾要求也比普通塑膠UV嚴格，一般要求用600目左右過濾網進行過濾。UV膜厚要求為底涂18-25um，面涂UV18-22um。